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文件名称:外延工艺——【微电子工艺学】.pdf
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总页数:30 页
更新时间:2025-05-15
总字数:约7.74千字
文档摘要
外延工艺
§1外延工艺
一.外延工艺概述
定义:外延(epitaxy)是在
单晶衬底上生长一层单
晶膜的技术。新生单晶
2021/1/26Tuesday1
CVD:ChemicalVaporDeposition
?晶体结构良好
?掺入的杂质浓度易控制
?可形成接近突变p—n结
?外延分类:气相