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文件名称:突破性能瓶颈:SiC超结VDMOS的深度剖析与创新优化设计.docx
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更新时间:2025-05-16
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文档摘要

突破性能瓶颈:SiC超结VDMOS的深度剖析与创新优化设计

一、引言

1.1研究背景与意义

随着现代社会对能源效率和可持续发展的关注度不断提高,电力电子技术在各个领域的应用愈发广泛,从新能源汽车、可再生能源发电到智能电网和工业自动化,电力电子器件都扮演着关键角色。在众多电力电子器件中,碳化硅(SiC)超结垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC超结VDMOS)因其卓越的性能优势,成为了研究和发展的焦点。

传统的硅(Si)基功率器件在面对高电压、高频率和高温等应用场景时,逐渐暴露出其局限性。Si材料较小的禁带宽度、击穿电场和热导率,限制了器件在高功率、高电压和高频率下的性能表现。随