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文件名称:三元共聚型低介电聚酰亚胺薄膜的制备与性能研究.pdf
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总页数:98 页
更新时间:2025-05-17
总字数:约17.18万字
文档摘要

三元共聚型低介电聚酰亚胺薄膜的制备与性能研究

摘要

21世纪以来,科学技术突飞猛进,电子产品在朝着信号传输高频化和高速数字化发

展。尤其进入5G通信时代以后,在高频下的信号高速传输更是对天线的材质提出了更

高的要求,形成了以柔性印制电路(FPC)为主的结构形式。聚酰亚胺(PI)材料作为集成电

路的绝缘材料被广泛应用,但是常规的聚酰亚胺介电常数与介电损耗偏高,不适合直接

用于5G频率下FPC板的基材。本论文以获得四种介电性能、热力学性能能够平衡兼顾,

综合性能良好的聚酰亚胺为目的,选择不同类型的二胺二酐单体,采用两步法,调整聚

合过程单体比例,制备三元共聚型聚酰亚胺薄膜,并对其结构性能进行表征分析。

基于分子结构设计思路,论文选用含酯键结构的对-亚苯基-双苯偏三酸酯二酐

(TAHQ)作为二酐,基于四种不同的二胺体系,通过三元共聚的方式研究不同二胺比例下

的PI膜的介电以及其他综合性能。其中,使用对含酯二胺氨基苯甲酸对氨基苯酯(APAB)

和4,4-二氨基二苯醚(ODA)制备聚酰亚胺并命名为ATOPI,使用含有烷基脂肪链的二

胺4-(4-(4-庚基环己基)苯氧基)苯-1,3二胺(PC7E)和对苯二胺(PDA)制备聚酰亚胺并命名

为PCMPI;以2,2-二(三氟甲基)二氨基联苯(TFMB)和PDA制备第一种含氟聚酰亚胺并

命名为PTMPI,使用2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷(HFBAPP)和

ODA制备第二种含氟聚酰亚胺并命名为HFOPI。使用傅里叶红外光谱仪、X-射线衍射

仪进行组成结构上的表征;使用分离谐振腔-网络矢量分析仪、万能材料试验机、热失重

分析仪、热膨胀分析仪、接触角测试仪等仪器进行性能的测试分析。

结果表明,ATOPI膜在含酯二胺APAB比例升高时,介电常数和介电损耗呈下降

趋势,最低介电常数达到2.63,介电损达到至0.0019,同时,ATOPI膜的热膨胀系数也

逐渐下降,拉伸强度和弹性模量有所增加,且含酯二胺的引入有利于降低ATOPI膜的

吸水率,最低吸水率达到1%以下;随着含有烷基脂肪链结构的二胺PC7E比例的升高,

PCMPI膜的介电逐渐降低,薄膜的机械性能和尺寸稳定性有一定程度的下降,但都属于

可控范围之内。通过模拟聚合物在交变电场中的偶极矩变化计算出两种PI膜的介电常

数以及介电损耗,结果显示与实测值变化趋势基本吻合;热膨胀系数通过显性拟合得到

的模拟计算值与实测值总体变化趋势也基本一致。

两种含氟聚酰亚胺PTMPI/HFOPI在含氟二胺比例增加时,介电常数常数和介电损

耗均呈现下降趋势,在TFMB/HFBAPP占比达到45~50%时介电达到最低,此时PTMPI

膜的介电常数为2.65,介电损耗为0.0028;HFOPI膜的介电常数为2.61,介电损耗为

哈尔滨工程大学专业学位硕士学位论文

0.0024,但含氟二胺比例增加的同时,机械性能和尺寸稳定性略有降低。模拟计算的介

电常数经过修正后与实测值较为吻合,介电损耗模拟值也与实验值较为接近,热膨胀系

数与实验值也有基本一致的变化趋势。

关键词:聚酰亚胺;低介电常数;薄膜;三元共聚

三元共聚型低介电聚酰亚胺薄膜的制备与性能研究

Abstract

Sincethe21stcentury,scienceandtechnologyhavemaderapidprogress,andelectronic

productsaredevelopingtowardshigh-frequencysignaltransmissionandhigh-speed

digitization.Especiallyafterenteringtheeraof5Gcommunication,thehigh-speedtransmission

ofsignalsathighfrequencieshasputforwardhigherrequirementsfo