自极化BiFeO?基薄膜的界面调控：机制、方法与应用探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代电子器件领域，对于高性能、多功能材料的追求始终是推动技术进步的关键驱动力。自极化BiFeO?基薄膜作为一种极具潜力的材料体系，因其独特的物理性质和丰富的应用前景，近年来在学术界和工业界引起了广泛的关注。

BiFeO?（BFO）是一种典型的多铁性材料，在室温下呈现出扭曲的钙钛矿结构。与传统的铅基材料（如PZT）相比，它具备一系列引人注目的优势。从电学性能上看，BFO薄膜拥有较大的剩余极化强度，通常可达～100μC/cm2，这一特性使其在非易失性存储器、铁电传感器等器件中具有潜在的应用价值，