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文件名称:集成电路先进制程工艺研发动态与竞争格局报告:2025年技术演进与市场潜力.docx
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总页数:22 页
更新时间:2025-05-22
总字数:约1.31万字
文档摘要

集成电路先进制程工艺研发动态与竞争格局报告:2025年技术演进与市场潜力

一、集成电路先进制程工艺研发动态与竞争格局概述

1.1研发背景

1.2技术演进

集成电路先进制程工艺的技术演进

我国企业研发成果

1.3竞争格局

全球竞争格局

我国市场竞争格局

全球竞争格局发展趋势

1.4市场潜力

全球市场需求

我国市场需求

市场潜力展望

二、集成电路先进制程工艺的关键技术分析

2.1光刻技术

传统光刻技术

极紫外光(EUV)