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文件名称:集成电路先进制程工艺研发动态与竞争格局报告:2025年技术演进与市场潜力.docx
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总页数:22 页
更新时间:2025-05-22
总字数:约1.31万字
文档摘要
集成电路先进制程工艺研发动态与竞争格局报告:2025年技术演进与市场潜力
一、集成电路先进制程工艺研发动态与竞争格局概述
1.1研发背景
1.2技术演进
集成电路先进制程工艺的技术演进
我国企业研发成果
1.3竞争格局
全球竞争格局
我国市场竞争格局
全球竞争格局发展趋势
1.4市场潜力
全球市场需求
我国市场需求
市场潜力展望
二、集成电路先进制程工艺的关键技术分析
2.1光刻技术
传统光刻技术
极紫外光(EUV)