《电子气体四氟化硅》
征求意见稿
编制说明
标准起草工作组
2025年04月
一、工作简况
1.1任务来源
电子级四氟化硅主要用于集成电路技术领域，是一种性能极佳的高纯气体材料。四氟化硅作为集成
电路用量大、纯度要求高的基础材料，是国家重点鼓励发展的产品和产业，符合《“十四五”推动高质量
发展的国家标准体系建设规划》中建设制造业高端化领域的材料标准的要求。高纯四氟化硅作为电子工
业重要原料之一，具有较高的氟硅比，被广泛应用于光纤、半导体或太阳能电池的生产，是电子产业核
心制造业的基础。主要用于硅化钽、氮化硅等的蚀刻剂、P型掺杂剂及外延沉积扩散硅源，还可以用于
制备电子级硅烷或多晶硅。同时，四氟化硅是理想的超低温保存媒体，用于电子工业中制造各种高纯、
优良的半导体器件和集成电路，广泛应用于航天技术精密光学仪器的制造。其次四氟化硅还用于制备超
纯四氟化硅原料，在化学工业上制造高纯度、高流动性的二氧化硅流体，用于溶解、分离、干燥、气化
或升华精细化工产品。
现行的电子用四氟化硅标准（GB/T31058-2014）已经执行11年，随着技术进步和市场变化，适
用范围、技术要求及试验方法等内容都需要修订。2014版标准已无法现代集成电路产业的要求，因此
建议重新修订该标准。通过对标准的修订，旨在对生产和检测提供指导性作用，对下游半导体产业的发
展提供质量保障。有利于提高我国高端电子材料自给能力，推动电子相关产业进步，扩大我国高纯电子
材料对外影响力，有效服务于国家战略需求。
根据国标委发〔2024〕60号文，国家标准化管理委员会于2024年下达了修订计划，修订计划号：T-469。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出，全国半导体设备和材料标准
化技术委员气体分会执行。
1.2工作过程的说明
1.2.1起草阶段
2024年国家标准化管理委员会下达了〔2024〕60号文，《电子气体四氟化硅》正式立项，标准
由全国半导体设备和材料标准化技术委员气体分会归口。为保证项目顺利实施，全国半导体设备和材料
标准化技术委员气体分会组织浙江中宁硅业股份有限公司、昊华气体有限公司西南分公司、福建德尔科
技股份有限公司、广东华特气体股份有限公司、浙江省化工研究院有限公司、中船（邯郸）派瑞特种气
体股份有限公司、上海华爱色谱分析技术有限公司、大连大特气体有限公司、联雄投资(上海)有限公司、
杭州新世纪混合气体有限公司、沈阳中复科金压力容器有限公司、西南化工研究设计院有限公司等相关
单位做了大量的前期调研及草案起草工作。
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标准起草小组首先开始搜集相关的资料，国际半导体设备与材料组织（SEMI）制定的国际工业标
准中无八氟丙烷标准，起草小组对国际、国内电子八氟丙烷产品生产情况进行了深入调研和分析，将国
外产品的技术标准和国内实际生产情况相结合，于2025年2月份提出了标准的讨论稿。2025年4月，
标准起草小组在线上召开标准讨论会，广泛征求生产企业的意见。在此次讨论会上，专家们就讨论稿的
基本结构、范围、技术指标、检验方法等进行了认真的讨论。提出了如下的意见：
（1）四氟化硅制备方法基本为石英砂与氢氟酸反应制备，因此建议适用范围修改为以硅与氢氟酸
为原料提纯制备。
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（2）将标准正文表1中项目名称中的“/10”放入技术指标一栏，并修改为“×10”，将项目
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名称中的“/10”放入技术指标一栏，并修改为“×10”。
（3）建议增加氟化氢的杂质含量要求。
（4）建议增加金属元素的含量要求。
（5）采用GB/T28726-2012《气体分析氦离子化气相色谱法》测定氢、氧+氩、氮、一氧化碳、
二氧化碳、甲烷含量。
（6）开展测定方法的验证试验。
1.2.2征求意见阶段
2025年5月，起草小组根据2025年