2025年集成电路先进制程研发动态：半导体产业技术创新与竞争格局研究报告模板

一、2025年集成电路先进制程研发动态

1.1我国集成电路先进制程研发背景

1.2先进制程技术创新

1.2.1制程技术

1.2.2材料创新

1.2.3设备创新

1.3竞争格局

1.3.1国际竞争

1.3.2国内竞争

1.4发展趋势

1.4.1技术发展趋势

1.4.2市场发展趋势

二、集成电路先进制程的关键技术分析

2.1光刻技术

2.1.1极紫外光（EUV）光刻技术

2.1.2多重曝光技术

2.2蚀刻技术

2.2.1干法蚀刻技术

2.2.2离子束蚀刻技术

2.3沉积技术

2.3.1