基本信息
文件名称:《T/CIE 132-2022磁控溅射设备薄膜精度测试方法》.pdf
文件大小:239.14 KB
总页数:4 页
更新时间:2025-05-29
总字数:约4.22千字
文档摘要
ICS23.160
CCSJ78
团体标准
/—
TCIE1322022
磁控溅射设备薄膜精度测试方法
Testmethodsforthinfilmthicknessofmanetronsutterineuiment
gpgqp
2022-08-10发布2022-08-10实施
中国电子学会发布
中国标准出版社出版
/—
TCIE1322022
目次
前言…………………………Ⅲ
1范围………………………1
2规范性引用文件…………………………1
3术语和定义………………1
4测试方法…………………2
4.1设备基本条件测试…………………2
4.2镀膜精度测试………………………3
Ⅰ
/—
TCIE1322022
前言
/—《:》
本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定
GBT1.120201
起草。
。。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任
本文件由中国电子学会提出并归口。
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本文件起草单位北京航空航天大学合肥致真精密设备有限公司合肥致真智能装备有限公司
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北京维开科技有限公司北京北方华创微