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文件名称:半导体物理霍耳效应.pptx
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更新时间:2025-05-31
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文档摘要

§2.9霍耳效应

一、实验现象

在相互垂直的电磁场中,导体或半导体因运动载流子受洛仑兹力而改变运动方向,在垂直于电磁场平面的方向形成电荷积累,产生横向附加电场。

若电流沿x方向,电流密度为Jx;均匀磁场沿方向,

磁感应强度为Bz;则在垂直于电场和磁场的+y(p型)或

-y方向(n型)将产生一个横向电场E,称之为霍耳电场,其值与电流密度Jx和磁感应强度Bz成正比,即

比例系数R称为霍耳系数,单位为m3/C,其值与载流子的密

度和迁移率有关,对p型为正,对n型为负。

空穴在洛伦兹力作用下向-y方向偏转,如果没有回路形成电

流,样品两端就会有电荷积累,产生指向+y方向的横向电场,当横向电场对空穴的作用与洛伦兹力作用相抵消时,达到稳定状态。这时,霍耳电场应满足qE、-qv、Bz=0,由此得

二、原理—一种载流子的霍耳效应

1、p型半导体

x方向电流密度Jx=pqvx,洛伦兹力为

qv×B,沿-y方向,大小为qv×B?。

B?

十十

y

→J

x

2、n型半导体

电流密度保持x方向,电子受到的

洛伦兹力变为一qv、B?,因而仍沿

-y方向偏转,产生指向-y方向的

横向电场,当横向电场对电子的作用与洛伦兹力作用相抵

消时达到稳定状态。这时,霍耳电场满足qE,-qv、B?=0,

由此得

3、霍尔角

外加电场E、与霍耳电场E的合成电场E对E的偏角θ称为

霍耳角。对p型半导体,E偏向+y方向,霍耳角为正,用θ表示;对于n型半导体,E偏向-y方向,霍耳角θ为负。

稳定时,y方向没有电流,电流仍沿x方向,说明有垂直磁场时,电流和电场不在同一个方向,两者之间夹霍尔角。

三、霍耳测试

通过霍耳电压U的测量可以求R。

测试采用厚度和宽度比长度小得多的矩形样品,若样品长度为l,宽度为b,厚度为d,则由

由霍尔系数计算载流子密度

n或p=|R?|/q

配合电阻率测试,求迁移率

μ=|R|/p

四、霍尔迁移率

若考虑载流子的速度分布,p型和n型半导体的霍尔系数变为

分别代入σ?=qnμ和op=qPHp,并与RH相乘,得

将考虑速度分布的迁移率

称μ为霍耳迁移率

对球形等能面非简并半导体,(HH/μ)p=(HH/μ)n,其值随散射

机构而异。对长声学波散射,μHlμ=3π/8=1.18;对电离杂质散射,μH/μ=315π/512=1.93。对高度简并半导体,μHlμ=1.

霍耳迁移率与漂移迁移率之比

p型和n型半导体的霍耳系数

五、两种载流子的霍耳效应

同时考虑半导体中的两种载流子,在相同的外加电场E、和

磁场B?的作用下,电子和空穴向同一侧偏转,产生方向相反、大小也不同的霍尔电场,设其合成总电场E,的方向沿+y。稳定时横向电流应为零,但横向空穴电流和横向电子电流分别不为零。

空穴电流密度包含两部分:

由洛伦兹力引起的空穴电流密度(-y方向):

-qPμ?(V?)、B?=-qPμ2E、B?

由合成总电场引起的空穴电流密度(+y方向):qPμE横向总空穴电流密度:(Jp)、,=qPμE,-qPμ2E、B?

同理,横向总电子电流密度:

(Jn),=qnμ,E,+qnμ2E、B?

稳定时

由此得

将Jz=q(pμp+nμm)E?代入上式,得

当两种载流子密度相差很大时,霍尔系数即前述只考虑一种

载流子的情况下所得之结果。

如果考虑载流子的速度分布

由此可见,当两种载流子密度相差不大时,霍尔系数应为

六、不同掺杂状态的RH

霍尔系数为负一定是n型半导体?

(1)本征:∵b1且n=p,∵RH永为负数,但随着温度的升高而绝对值减小。

(2)n型:不管什么温度,pn,即总是pnb2,RH也永为负数。

(3)p型:pnb2时R0;pnb2时(n接近p时),RH0

讨论:

InSb的变温霍尔测试曲线

InSb的特点:

1)禁带窄,室温下本征载流子密度近2×1016cm-3

2)电子迁移率高,电子空

=r.八)

穴迁移率之比较大,室温下:

H?=5×10?cm2/Vs,

(μp)h=850cm2/Vs

(μp)=3×10?cm2/Vs

-200K

p型

1000/T

K52

10X10

89

10-3

I5K

100K

300K

七、霍耳效应的应用

1、测定载流子浓度和迁移率,判别导电类型

2、霍耳器件

利用霍尔效应探测磁场和电流的器件。

为使器件灵敏度高,常选用迁移