跨尺度无掩模光刻技术赋能纳米线晶体管制备：原理、应用与展望

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代，微电子技术作为现代信息技术的基石，正以前所未有的速度推动着各类电子设备的革新与进步。从我们日常使用的智能手机、平板电脑，到高性能的计算机、云计算服务器，再到先进的人工智能硬件，微电子技术的身影无处不在，它已然成为支撑现代社会运转和发展的关键力量。在微电子技术的众多关键技术中，光刻技术和晶体管技术占据着举足轻重的地位，它们的每一次突破都为整个微电子领域带来了深远的影响，推动着电子设备不断向更小尺寸、更高性能、更低功耗的方向发展。

光刻技术，作为集成电路制造过程中的核心工艺，其作