基本信息
文件名称:《电子级水中空纤维疏水膜应用技术规程》.pdf
文件大小:405.49 KB
总页数:26 页
更新时间:2025-05-31
总字数:约2.03万字
文档摘要

T/CECSxxx-202x

中国工程建设标准化协会标准

电子级水中空纤维疏水膜应用技术规程

Applicationtechnicalregulationofhydrophobichollowfibermembranecontactorsin

electronic-gradewater

(征求意见稿)

(提交反馈意见时,请将有关专利连同支持性文件一并附上)

XXX出版社

I

T/CECS

目次

前言1

1总则3

2术语4

3工艺设计6

3.1一般规定6

3.2工艺需求7

3.3脱除二氧化碳系统8

3.4脱除氧气系统8

3.5加氮机能水系统9

3.6加氢机能水系统10

3.7加二氧化碳机能水系统11

3.8系统参数控制11

4安装13

4.1一般要求13

4.2脱气膜安装13

4.3电气系统15

4.4控制系统15

5调试与验收16

5.1一般要求16

5.2脱气膜水路调试16

5.3脱气膜气路调试16

5.4系统联动调试18

5.5验收18

6运行维护与安全防护19

6.1运行维护19

6.2安全防护20

用词说明21

引用标准名录22

附:条文说明23

2

T/CECS

1总则

1.0.1电子级水对水中的溶解性气体含量提出了要求,本规程以去除或溶入溶解性气体为

目标,对应用中空纤维疏水膜的工艺设计、质量控制、安装、调试、验收、运行维护与安

全防护等进行统一规范,有利于提高设计水平、质量控制和运行效果、提高中空纤维疏水

膜在电子级水处理领域中的应用,为行业的发展提供技术指导和支持。

条文说明:随着电子和半导体工艺的技术发展,其工艺制程中所用的超纯水对溶解性气体

含量提出了新的要求。国家标准《电子级水》GB/T11446.1中的技术指标暂未对溶解性气

体提出具体要求,在实际工程中主要参考美国材料标准ASTMD5127《StandardGuidefor

Ultra-PureWaterUsedintheElectronicsandSemiconductorIndustries》或工艺制

程的要求。部分工艺制程对超纯水中的溶解氧提出了严格的要求,超纯水中溶解氧对工艺

制程影响较大,诸如会造成产品的金属层、硅片表面氧化,增加电阻,影响电路性能;与

光刻胶发生反应,造成光刻胶性能劣化;加剧电化学腐蚀影响导线电阻,形成微气泡影响

产品良率。故而电子级水有对溶解性气体去除的要求。

1.0.2本规程适用于通过中空纤维疏水膜去除水中溶解性气体或向电子级水中注入气体的

系统。

条文说明:电子级水主要通过中空纤维疏水膜去除水中的二氧化碳和氧气。部分工艺制程

还需要在电子级水中溶入氢气、氮气、臭氧、氨气等气体,来提升工艺生产效率。

1.0.3电子级水中空纤维疏水膜在工程应用中,除应符合本规程外,尚应符合国家现行有

关标准和现行中国工程建设标准化协会有关标准的规定。

3

T/CECS

2