ICPCVD生长介质膜在镜面发射激光器中的应用与性能优化研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代，光通信和激光雷达等领域正经历着前所未有的变革与发展，而ICPCVD（感应耦合等离子体化学气相沉积）生长的介质膜以及镜面发射激光器在其中扮演着举足轻重的角色。

随着5G乃至未来6G通信技术的快速推进，光通信系统对于高速率、大容量、低损耗的数据传输需求愈发迫切。在光通信的核心部件中，光纤和光波导等器件的性能提升离不开高质量的介质膜。ICPCVD技术能够精确控制反应条件，在基底上沉积出高质量、均匀且具有特定光学性能的介质膜。这些介质膜可用于制作光纤的包层、光波导的芯