基于直流磁控溅射技术的细长管道内壁TiZrV薄膜制备与性能研究

一、引言

1.1研究背景与意义

1.1.1研究背景

在现代工业和科学研究的众多领域，如航空航天、半导体制造、能源等，对材料表面性能的要求日益严苛。真空技术作为材料表面处理和薄膜制备的关键手段，发挥着举足轻重的作用。其中，管道内表面的薄膜制备是一个极具挑战性的课题，尤其是对于细长管道，传统的镀膜方法往往难以满足其均匀性、附着力以及特殊功能需求等多方面的要求。

在一些特殊应用场景中，如加速器真空管道、真空镀膜设备的传输管道等，需要在管道内壁制备具有特定性能的薄膜。这些薄膜不仅要具备良好的真空性能，如低出气率、高抽气能力等，还需具备