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2025年台积电半导体制造工艺专利布局深度解读报告

一、2025年台积电半导体制造工艺专利布局深度解读报告

1.背景分析

1.1全球半导体行业竞争激烈，技术创新成为企业核心竞争力

1.2随着摩尔定律的逐渐失效，半导体制造工艺进入纳米级时代

1.3专利布局对于企业技术保护、市场竞争、技术转移等方面具有重要意义

2.核心专利技术分析

2.1光刻技术

2.2刻蚀技术

2.3掺杂技术

3.专利布局策略分析

3.1全方位布局

3.2重点布局

3.3国际布局

4.未来发展趋势分析

4.1半导体制造工艺向更高精度、更高性能方向发展

4.2台积电将继续加大研发投入

4.3随着全