精度致胜：光学元件制造精度对浸没光刻机照明系统性能的深度解析

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的浪潮中，半导体产业作为信息技术的核心与基石，已然成为推动全球经济增长和科技创新的关键力量。从日常使用的智能手机、电脑，到高端的人工智能、云计算设备，半导体芯片无处不在，其性能的优劣直接决定了这些设备的运行效率和功能实现。而在半导体芯片制造的复杂工艺流程里，光刻技术占据着核心地位，是实现芯片微小化、高性能化的关键技术。

光刻技术的原理是利用光的特性，将设计好的电路图案精确地转移到半导体材料表面的光刻胶上，这一过程就像是在微小的画布上进行精细绘画，每一笔都决定着最终产品的性能和质量。