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文件名称:Cr2Ge2Te6基场效应晶体管:结构、性能与调控策略的深度剖析.docx
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总页数:36 页
更新时间:2025-06-07
总字数:约4.81万字
文档摘要
Cr2Ge2Te6基场效应晶体管:结构、性能与调控策略的深度剖析
一、引言
1.1研究背景与意义
在信息技术飞速发展的当下,电子产品不断向小型化、高性能化方向迈进,对作为核心元件的晶体管性能提出了极高要求。传统硅基晶体管受材料和物理特性的制约,其性能提升空间逐渐收窄,难以满足未来电子设备对更高速度、更低功耗和更高集成度的需求,这促使科研人员积极探索新型晶体管材料和结构。
随着二维材料研究的深入,二维磁性半导体材料因其独特的原子结构和物理性质,为晶体管的发展开辟了新方向。其中,Cr?Ge?Te?作为一种典型的二维磁性半导体,展现出诸多优异特性,在构建高性能场效应晶体管方面具有巨大潜力。
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