基本信息
文件名称：半导体光刻培训.pptx
文件大小：4.2 MB
总页数：27 页
更新时间：2025-06-10
总字数：约小于1千字
文档摘要
半导体光刻培训;CATALOGUE;01;光刻工艺概述;光刻原理与曝光机制;分辨率定义;02;;光源系统与波长选择;对准系统与精度控制;03;基片预处理步骤;光刻胶涂覆与烘烤;显影与检查步骤;04;光刻胶类型与特性;掩膜版设计与制作;辅助材料（抗反射层