全球市场研究报告
纯金属溅射靶材全球市场总体规模
溅射靶材通常是具有不同尺寸和形状的固态金属块。靶材的材料可以是纯金属、合金，也可以是氧化物或氮
化物等化合物。
本报告仅涵盖纯金属溅射靶材。纯金属溅射靶材通常由高纯度金属制成，是溅射沉积技术中最广泛使用和
最基础的涂层材料。如铝、铜、银、金等金属靶材，在现代工业中非常常见。
据QYResearch调研团队最新报告“全球纯金属溅射靶材市场报告2025-2031”显示，预计2031年全球纯
金属溅射靶材市场规模将达到27.6亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为4.8%。
图.纯金属溅射靶材，全球市场总体规模
如上图表/数据，摘自QYResearch最新报告“全球纯金属溅射靶材市场研究报告2025-2031”.
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图.全球纯金属溅射靶材市场前14强生产商排名及市场占有率（基于2024年调研数据；目前最新数据
以本公司最新调研数据为准）
如上图表/数据，摘自QYResearch报告“全球纯金属溅射靶材市场研究报告2025-2031”，排名基于2024数据。目前最新数据，以本公司
最新调研数据为准。
根据QYResearch头部企业研究中心调研，全球范围内纯金属溅射靶材生产商主要包括JXNippon、
HoneywellElectronicMaterials、宁波江丰电子材料、Plansee、Tosoh、Materion、SumitomoChemical、
HitachiMetals、爱发科、GRIKIN等。2024年，全球前十强厂商占有大约70.0%的市场份额。
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图.纯金属溅射靶材，全球市场规模，按产品类型细分，高纯纯金属溅射靶材产品处于主导地位
如上图表/数据，摘自QYResearch最新报告“全球纯金属溅射靶材市场研究报告2025-2031”.
就产品类型而言，目前高纯纯金属溅射靶材是最主要的细分产品，占据大约61.9%的份额。
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图.纯金属溅射靶材，全球市场规模，按应用细分，半导体是最大的应用市场，占有43.0%份额。
如上图表/数据，摘自QYResearch最新报告“全球纯金属溅射靶材市场研究报告2025-2031”.
就产品应用而言，目前半导体是最主要的需求来源，占据大约43.0%的份额。
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图.全球主要市场纯金属溅射靶材规模
如上图表/数据，摘自QYResearch最新报告“全球纯金属溅射靶材市场研究报告2025-2031”.
市场推动因素
半导体产业的快速发展
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全球市场研究报告
随着5G、AI、物联网和高性能计算等技术的兴起，全球对先进半导体芯片的需求持续攀升，推动对高纯金
属溅射靶材（如铜、铝、钛等）的需求快速增长。靶材作为关键材料，广泛应用于金属互连、电极与薄膜层
制造，是芯片制造不可或缺的一环。
太阳能光伏市场扩张
太阳能电池产业，尤其是薄膜太阳能技术（如CIGS、CdTe）的大规模部署，带动了对特定纯金属靶材（如
钼、银、铟等）的持续需求。全球绿色能源转型进一步加快了该领域的靶材消耗。
显示面板（LCD/OLED）制造增长
随着智能手机、电视、笔记本电脑等消费电子产品不断升级，对高分辨率、超薄化显示屏的需求推动了溅射
技术在显示面板中的广泛应用，如铟锡氧化物（ITO）层或金属电极沉积。
高纯材料技术的进步
提纯工艺与靶材制造技术的持续进步，使得超高纯靶材（99.999%以上）的成本逐步降低，生产效率提升，
从而推动高端应用市场（如芯片、医疗器械、航天器件）中更广泛的采用。
市场制约因素
高纯度原材料成本昂贵
超高纯金属靶材对原材料纯度和加工精度要求极高，提纯成本和制造难度大，导致产品价格高昂，限制了部
分中小型企业的采购