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文件名称:超深亚微米VLSI中层次化SI物理设计流程的应用与探索.docx
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总页数:21 页
更新时间:2025-06-15
总字数:约2.6万字
文档摘要
超深亚微米VLSI中层次化SI物理设计流程的应用与探索
一、引言
1.1研究背景与意义
自1958年杰克?基尔比(JackKilby)发明集成电路以来,集成电路技术经历了飞速发展,从最初的小规模集成电路(SSI)逐步演进到中规模集成电路(MSI)、大规模集成电路(LSI),直至如今的超大规模集成电路(VLSI)。这一发展历程遵循着著名的摩尔定律,即芯片上可容纳的晶体管数目大约每18-24个月便会翻一番,与此同时,芯片的性能不断提升,成本却持续降低。在这一趋势的推动下,集成电路的特征尺寸不断缩小,如今已进入超深亚微米时代,甚至朝着纳米级迈进。
随着集成电路进入超深亚微米领域,信号完