基本信息
文件名称:化合物半导体.docx
文件大小:21.89 KB
总页数:7 页
更新时间:2025-06-22
总字数:约4.67千字
文档摘要
化合物半导体高速集成电路
.1.化合物半导体是由两种或多种元素组成的混晶构造半导体。目前应用最广、进展最快
的化合物半导体材料是Ⅲ-Ⅴ族化合物。
.2.化合物半导体集成电路的主要特征是超高速、低功耗、多功能、抗辐射。具体表现在以下几个方面:〔1〕化合物半导体材料具有很高的电子迁移率和电子漂移速度。〔2〕GaAs材料的肖特基势垒特性比Si优越。〔3〕GaAs的本征电阻率可达109,比硅高四个数量级,为半绝缘衬底。4〕禁带宽度大,可以在Si器件难以工作的高温领域工作。GaAs为直接带隙半导体,可以发光。也就是说它可以实现光电集成。〔6〕抗辐射力量强。
.3.高性能化合物半导体材料制备