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文档摘要

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氮化铝纳米线：多元制备技术与微观结构解析

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代材料科学的前沿领域，低维纳米材料凭借其独特的电学、光学、磁学和化学性质，成为研究的焦点。其中，氮化铝纳米线作为一种具有广阔应用前景的低维纳米材料，吸引了众多科研人员的关注。

氮化铝（AlN）是一种重要的III-V族化合物半导体材料，具有诸多优异的性能。它的热导率高，能够有效地传导热量，这一特性使得氮化铝在电子器件的散热领域具有重要的应用价值。随着电子设备不断向小型化、高性能化发展，对散热材料的要求也越来越高。例如，在高功率的电子芯片中，大量的热量需要及时散发出去，以保证芯片的正常运行和使用寿命。氮化铝纳米