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文件名称:(新)半导体制造技术考试题库.docx
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总页数:23 页
更新时间:2025-07-04
总字数:约7.67千字
文档摘要
(新)半导体制造技术考试题库
一、选择题
1.以下哪种光刻技术的分辨率最高?()
A.紫外光刻
B.深紫外光刻
C.极紫外光刻
D.电子束光刻
答案:D
解析:电子束光刻可以实现非常高的分辨率,因为电子束的波长极短。紫外光刻、深紫外光刻和极紫外光刻虽然也在不断发展提高分辨率,但相比之下,电子束光刻能达到的分辨率最高。紫外光刻分辨率一般在微米级别;深紫外光刻可达到几十纳米;极紫外光刻能达到十几纳米;而电子束光刻可以达到纳米甚至亚纳米级别。
2.在化学气相沉积(CVD)过程中,以下哪种气体通常作为载气使用?()
A.氢气
B.氧气
C.氮气
D.氯气
答案:C
解析:氮