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磁控溅射实验讲义

一、磁控溅射原理

磁控溅射是固体薄膜的重要技术之一，已被广泛地应用于科学研究

和工业生产中。磁控溅射的原理是，电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中

与氩原子发生碰撞，电离出氩离子和电子，电子飞向基片，氩离子在电场的加速

作用下轰击靶材，溅射出靶材原子或分子，呈中性的靶原子或分子沉积在基片上

形成薄膜。电子在加速飞向基片的过程中受到靶表面附近磁场洛仑磁力的影响，

被