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文档摘要

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静电场辅助压印光刻技术：原理、工艺与多元应用探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代，微纳加工技术作为现代制造业的关键支撑，正不断推动着众多领域迈向新的高度。从集成电路制造到生物医学检测，从光学器件制备到传感器技术革新，微纳加工技术无处不在，其重要性不言而喻。而静电场辅助的压印光刻技术，作为微纳加工领域中的一颗璀璨新星，近年来受到了广泛的关注与深入的研究。

传统光刻技术在不断追求更小线宽和更高分辨率的道路上，面临着诸多挑战。例如，光学光刻受限于光源波长，难以突破几十纳米的分辨率瓶颈，其复杂的光学系统和高昂的设备成本，也使得光刻技术的进一步发展和应用受到了限制。电子束光