中国铬溅射靶材项目可行性研究报告.docx

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更新时间：2025-07-12

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文档摘要

研究报告

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中国铬溅射靶材项目可行性研究报告

一、项目概述

1.项目背景

(1)随着我国半导体产业的快速发展，电子制造业对高精度、高性能的溅射靶材需求日益增长。溅射靶材作为一种重要的电子材料，广泛应用于显示器、太阳能电池、微电子器件等领域。近年来，我国溅射靶材市场规模逐年扩大，据统计，2019年我国溅射靶材市场规模已达到约120亿元，预计未来几年将保持10%以上的年增长率。在此背景下，铬溅射靶材作为高性能溅射材料之一，市场需求旺盛，市场潜力巨大。