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文件名称:磨粒划擦诱导SiC晶圆水反应的材料去除机理研究.pdf
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总页数:87 页
更新时间:2025-07-20
总字数:约9.58万字
文档摘要
摘要
摘要
SiC
单晶碳化硅()具有极其优异的材料特性,广泛应用于新能源汽车、航
空航天和智能电网等众多领域。在高功率和极端工作条件下,相比于传统的硅
器件,SiC器件表现出更优异的性能。然而,SiC具有硬度高、脆性大和化学性
质稳定等特点,导致加工后的SiC晶圆表面质量难以达到SiC器件的要求。同
SiC
时加工工艺面临着加工效率低,成本高,且磨料易团聚,酸碱性抛光废液