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摘要

原子级薄的二维过渡金属硫族化合物材料，在光电子器件应用领域表现出很大的

潜力，近年来被广泛研究。然而，实际应用需要克服许多困难，其中就包括提高二维

过渡金属硫族化合物的低光致发光，由于缺陷位置和掺杂的不受控，使得利用化学方

法修复或钝化缺陷的以提高材料光致发光很困难，付出了巨大努力。本文采用了一种

无机强酸硫酸的化学处理手段对单层二硫化钨、二硒化钨样品处理，利用该手段处理

的二维二硫化钨单层光致发光强度得到了提高，证明了硫酸处理的有效性。处理后的

二硫化钨单层样品带电激子峰强度最大提高了两倍左右，而三激子峰最大得到了约6.6

倍的增强。处理后二维单层二硒化钨样品