基本信息
文件名称:低维氧化锌体系p型掺杂与外场调控的理论探索与应用研究.docx
文件大小:48.92 KB
总页数:28 页
更新时间:2025-07-31
总字数:约3.57万字
文档摘要

低维氧化锌体系p型掺杂与外场调控的理论探索与应用研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代材料科学与电子器件领域,低维氧化锌体系凭借其独特的物理性质和广泛的应用前景,成为了研究的焦点之一。氧化锌(ZnO)作为一种重要的宽带隙半导体材料,具有带隙宽(室温下约为3.37eV)和激子束缚能高(约为60meV)的特点,这使得它在光电器件、传感器、催化等诸多领域展现出巨大的应用潜力。而低维氧化锌材料,如纳米线、纳米带、量子点以及薄膜等,由于量子限域效应和高比表面积等特性,进一步拓展了其性能优势,为实现高性能电子器件提供了新的可能。

p型掺杂对于氧化锌体系而言至关重要。在半导体器件中,p