激光等离子体极紫外光源收集镜多层膜关键问题与优化策略研究

一、引言

1.1研究背景与意义

随着半导体产业的飞速发展，光刻技术作为集成电路制造的核心工艺，对于提高芯片集成度和性能起着至关重要的作用。极紫外光刻（EUVL）技术因其能够实现更小的线宽和更高的分辨率，成为了当前光刻领域的研究热点和发展方向，被广泛认为是实现下一代大规模集成电路制造的关键技术。

在极紫外光刻系统中，激光等离子体（LPP）极紫外光源是目前的主流选择。LPP光源通过高能激光与锡液滴靶相互作用产生等离子体，进而辐射出极紫外光。而收集镜多层膜作为LPP极紫外光源系统中的关键光学元件，承担着将产生的极紫外光会聚到中间焦点，