二维半导体材料及其异质结：生长、性能与光电子应用的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

半导体材料作为现代信息技术的基石，其发展历程见证了科技的飞速进步。从早期的锗材料到如今广泛应用的硅基半导体，每一次材料的革新都推动着半导体产业迈向新的台阶。随着信息技术对器件性能要求的不断提高，传统硅基半导体逐渐逼近其物理极限，如在减小器件尺寸的过程中，短沟道效应愈发显著，导致漏电流增加、功耗上升以及性能不稳定等问题，这严重制约了集成电路的进一步发展，摩尔定律面临着严峻的挑战。在此背景下，二维半导体材料因其独特的原子结构和优异的物理性质，成为了半导体领域的研究热点，为突破传统半导体的限制带来了新的希