基本信息
文件名称:2025年半导体设备研发:关键技术创新路线分析报告.docx
文件大小:34.39 KB
总页数:21 页
更新时间:2025-08-06
总字数:约1.31万字
文档摘要
2025年半导体设备研发:关键技术创新路线分析报告模板
一、2025年半导体设备研发:关键技术创新路线分析报告
1.1.行业背景
1.1.1全球半导体产业规模持续扩大,市场潜力巨大
1.1.2我国政府高度重视半导体产业发展
1.1.3我国半导体设备产业链尚不完善,关键核心技术受制于人
1.2.技术创新路线
1.2.1光刻设备技术创新
1.2.2刻蚀设备技术创新
1.2.3清洗设备技术创新
1.2.4检测设备技术创新
1.2.5封装设备技术创新
二、半导体设备研发的关键技术发展趋势
2.1光刻设备技术发展趋势
2.1.1分辨率提升
2.1.2光源技术革新
2.1.3光刻机