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文件名称：集成电路制造技术——原理与工艺（第3版）课件 第8章 光刻工艺.pptx
文件大小：11.32 MB
总页数：19 页
更新时间：2025-08-09
总字数：约2.66千字
文档摘要
集成电路制造技术集成电路制造技术JICHENGDIANLUZHIZAOJISHU——原理与工艺哈尔滨工业大学/田丽
光刻技术JICHENGDIANLUZHIZAOJISHU
光刻工艺光刻技术刻蚀技术
光刻工艺第八章光刻工艺JICHENGDIANLUZHIZAOJISHU
8.1概述光刻(photolithography)是将掩模版（光刻版）上的几何图形转移到覆盖在硅衬底表面对光辐照敏感的光刻胶上的工艺。光刻技术发展Si光刻胶光刻掩模光源投影透镜Lmin光刻通常是用最小线条宽度来表征其发展水平，称为特征线宽（