集成电路制造技术集成电路制造技术JICHENGDIANLUZHIZAOJISHU——原理与工艺哈尔滨工业大学/田丽

扩散第四章扩散JICHENGDIANLUZHIZAOJISHU

4.1扩散机构4.2晶体中扩散的基本特点与宏观动力学方程4.3杂质的扩散掺杂4.4热扩散工艺中影响杂质分布的其它因素4.5扩散工艺条件与方法4.6扩散工艺质量与检测4.7扩散工艺的发展目录CONTENTS

4.1扩散机构晶体内的扩散是通过微观粒子-原子的一系列随机跳跃来实现的，这些跳跃在三维方向进行；主要有替位式、间隙式、替位-间隙式三种方式只有当晶体