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文件名称:集成电路制造技术——原理与工艺(第3版)课件 第9章 光刻技术.pptx
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总页数:45 页
更新时间:2025-08-09
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文档摘要
集成电路
制造技术
集成电路
制造技术
JICHENGDIANLU
ZHIZAOJISHU
——原理与工艺
光刻技术
第九章
光刻技术
JICHENGDIANLU
ZHIZAOJISHU
CONTENTS
光刻时接受图像的介质称为光刻胶。
以光刻胶构成的图形作为掩膜对其它薄膜进行刻蚀,图形就转移到晶元表面的薄膜上,所以也将光刻胶称为光致抗蚀剂。
对于入射光有化学变化,保持潜像至显影,从而实现图形转移,
即空间图像→潜像。
抗蚀剂的作用;
感光材料
胶的主体,又称光敏剂
聚合物材料
光的辐照下不发生化学反应,保证光刻胶薄膜的附着性和抗腐蚀性
溶剂
可以控制光刻