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文件名称:集成电路制造技术——原理与工艺(第3版)课件 第9章 光刻技术.pptx
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更新时间:2025-08-09
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文档摘要

集成电路

制造技术

集成电路

制造技术

JICHENGDIANLU

ZHIZAOJISHU

——原理与工艺

光刻技术

第九章

光刻技术

JICHENGDIANLU

ZHIZAOJISHU

CONTENTS

光刻时接受图像的介质称为光刻胶。

以光刻胶构成的图形作为掩膜对其它薄膜进行刻蚀,图形就转移到晶元表面的薄膜上,所以也将光刻胶称为光致抗蚀剂。

对于入射光有化学变化,保持潜像至显影,从而实现图形转移,

即空间图像→潜像。

抗蚀剂的作用;

感光材料

胶的主体,又称光敏剂

聚合物材料

光的辐照下不发生化学反应,保证光刻胶薄膜的附着性和抗腐蚀性

溶剂

可以控制光刻