基本信息
文件名称:《电工电子技术基础及应用》课件 6.2 PN结的形成及特性.pptx
文件大小:850.86 KB
总页数:29 页
更新时间:2025-08-11
总字数:约3.8千字
文档摘要
6.2PN结的形成及特性《第六章二极管及整流电路》
PN结的形成及特性PN结是P型半导体与N型半导体交界面处形成的电学区域,是组成半导体器件的基本结构。
学习目标1.熟悉PN结的形成2.掌握PN结的单向导电性
6.2.1PN结的形成用不同的掺杂工艺使同一半导体(如本征硅)一侧形成P型半导体,而另一侧形成N型半导体。此时,在它们的交界面处就出现了自由电子和空穴的浓度差别,如图所示。浓度差使载流子发生扩散运动
6.2.1PN结的形成P区的多子空穴浓度大大高于N区的少子空穴浓度,而N区的多子自由电子浓度大大高于P区的少子自由电子浓度,由于存在载流子的浓度差,载流子将从浓度较高的区域向浓度较低