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文件名称:2025年半导体设备研发:技术路线选择与产业链协同发展报告.docx
文件大小:34.1 KB
总页数:21 页
更新时间:2025-08-11
总字数:约1.27万字
文档摘要

2025年半导体设备研发:技术路线选择与产业链协同发展报告

一、2025年半导体设备研发:技术路线选择与产业链协同发展报告

1.1技术发展趋势

1.1.1先进制程技术

1.1.2新材料应用

1.1.3智能化与自动化

1.2技术路线选择

1.2.1光刻技术

1.2.2刻蚀技术

1.2.3沉积技术

1.3产业链协同发展

1.3.1产业链上下游企业合作

1.3.2产学研结合

1.3.3政策支持

二、半导体设备研发的关键技术分析

2.1光刻设备技术

2.1.1极紫外光(EUV)光刻技术

2.1.2纳米压印技术

2.1.3光刻胶技术

2.2刻蚀设备技术

2.2.1高精