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文件名称:2025年半导体设备研发:技术路线选择与产业链协同发展报告.docx
文件大小:34.1 KB
总页数:21 页
更新时间:2025-08-11
总字数:约1.27万字
文档摘要
2025年半导体设备研发:技术路线选择与产业链协同发展报告
一、2025年半导体设备研发:技术路线选择与产业链协同发展报告
1.1技术发展趋势
1.1.1先进制程技术
1.1.2新材料应用
1.1.3智能化与自动化
1.2技术路线选择
1.2.1光刻技术
1.2.2刻蚀技术
1.2.3沉积技术
1.3产业链协同发展
1.3.1产业链上下游企业合作
1.3.2产学研结合
1.3.3政策支持
二、半导体设备研发的关键技术分析
2.1光刻设备技术
2.1.1极紫外光(EUV)光刻技术
2.1.2纳米压印技术
2.1.3光刻胶技术
2.2刻蚀设备技术
2.2.1高精