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文件名称:(2025年)半导体或芯片岗位招聘面试题与参考回答(含答案).docx
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总页数:17 页
更新时间:2025-08-17
总字数:约7.35千字
文档摘要
(2025年)半导体或芯片岗位招聘面试题与参考回答(含答案)
选择题
1.以下哪种半导体材料常用于制造高性能集成电路?()
A.锗(Ge)
B.硅(Si)
C.砷化镓(GaAs)
D.碳化硅(SiC)
答案:B
解析:硅(Si)是目前制造高性能集成电路最常用的半导体材料。它具有丰富的资源、良好的热稳定性、成熟的加工工艺等优点。锗(Ge)早期也用于半导体器件,但由于其热稳定性较差等缺点,逐渐被硅取代。砷化镓(GaAs)具有高电子迁移率等优点,常用于高频、高速器件,但成本较高且加工工艺不如硅成熟。碳化硅(SiC)主要用于高压、高温、高频等特殊应用领域。
2.在CMOS工艺中,P阱和