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(2025年)半导体制造技术考试题库

选择题

1.以下哪种光刻技术分辨率最高？（）

A.紫外光刻

B.深紫外光刻

C.极紫外光刻

D.电子束光刻

答案：C

解析：紫外光刻是早期的光刻技术，分辨率相对较低。深紫外光刻在一定程度上提高了分辨率，但极紫外光刻波长更短，能够实现更高的分辨率，可用于制造更小尺寸的芯片。电子束光刻虽然分辨率也很高，但它是一种直写技术，生产效率低，主要用于掩膜制造等特定场景。所以分辨率最高的是极紫外光刻，选C。

2.化学机械抛光（CMP）过程中，以下哪种物质通常作为磨料？（）

A.二氧化硅

B.氢氧化钠

C.过氧化氢

D.柠檬酸

答案：A

解析：