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半导体制造技术考试题库(答案)

一、选择题（每题3分，共30分）

1.以下哪种光刻技术分辨率最高？（）

A.光学光刻

B.电子束光刻

C.离子束光刻

D.X射线光刻

答案：B

解析：电子束光刻的分辨率可以达到纳米级别，相比光学光刻、离子束光刻和X射线光刻，其分辨率最高。光学光刻受限于光的波长，分辨率相对较低；离子束光刻虽然分辨率也较高，但设备复杂且成本高；X射线光刻在分辨率和工艺控制等方面存在一定挑战。

2.化学气相沉积（CVD）过程中，气体反应物在衬底表面发生化学反应形成薄膜，以下哪种是CVD的主要优点？（）

A.薄膜纯度低

B.台阶覆盖性差

C.