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(新)半导体制造技术考试题库(答案)

一、选择题

1.以下哪种光刻技术分辨率最高？（）

A.紫外光刻

B.深紫外光刻

C.极紫外光刻

D.电子束光刻

答案：C

解析：紫外光刻和深紫外光刻虽然在半导体制造中广泛应用，但随着芯片特征尺寸不断缩小，其分辨率逐渐无法满足要求。极紫外光刻（EUV）使用波长为13.5nm的极紫外光，能实现更高的分辨率，可满足先进制程芯片制造需求。电子束光刻主要用于掩膜制造等特定场景，且生产效率低，并非大规模生产中提高分辨率的主流光刻技术。所以分辨率最高的是极紫外光刻，选C。

2.化学气相沉积（CVD）中，哪种反应类型通常需要较高的温度？（）

A.