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文件名称:铜衬底上CVD石墨烯:界面相互作用与氢氧调控生长机制探究.docx
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更新时间:2025-08-22
总字数:约7.81万字
文档摘要

铜衬底上CVD石墨烯:界面相互作用与氢氧调控生长机制探究

一、引言

1.1研究背景与意义

自2004年英国曼彻斯特大学的安德烈?盖姆(AndreGeim)和康斯坦丁?诺沃肖罗夫(KonstantinNovoselov)首次成功从石墨中剥离出石墨烯以来,这种由碳原子以sp^2杂化轨道组成六角型呈蜂巢晶格的二维碳纳米材料,凭借其优异的性能,在科学界和工业界引发了广泛关注,开启了二维材料研究的新篇章。

石墨烯具有一系列独特且卓越的性能,使其在众多领域展现出巨大的应用潜力。在电学性能方面,石墨烯的载流子迁移率极高,可达200000cm^2/(V·s),这一特性使得电子在其中能够快速移动,有