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T/TMACXXX—2024

化学气相沉积(CVD)法制备硅碳负极材料技术规范

1范围

本文件规定了化学气相沉积（CVD）法制备硅碳负极材料的工艺要求、过程控制参数要求、性能要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存。

本文件适用于以碳材料为基底，通过化学气相沉积法沉积硅制备的硅碳复合负极材料。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。

GB/T191包装储运图示标志

GB/T2828.1计数抽样检验程序