2025年半导体光刻光源技术创新在微纳米级芯片制造中的关键作用范文参考

一、2025年半导体光刻光源技术创新在微纳米级芯片制造中的关键作用

二、光刻光源技术发展现状与挑战

2.1光刻光源技术发展历程

2.1.1紫外光（UV）光源时代

2.1.2深紫外光（DUV）光源时代

2.1.3极紫外光（EUV）光源时代

2.2光刻光源技术面临的挑战

2.2.1光源稳定性

2.2.2光源功率与效率

2.2.3成本控制

2.3光刻光源技术创新方向

三、光刻光源技术对微纳米级芯片制造的影响

3.1光刻光源技术对芯片性能的影响

3.1.1提高分辨率

3.1.2降低功耗

3.1.3提高集成