表面化学分析深度剖析：AES和XPS中离子束对准与束流测量方法标准化研究报告

EnglishTitle:StandardizationofIonBeamAlignmentandCurrentMeasurementMethodsinAESandXPSDepthProfilingforSurfaceChemicalAnalysis

摘要

随着表面分析技术在材料科学、微电子、纳米技术和催化研究等领域的广泛应用，俄歇电子能谱（AES）和X射线光电子能谱（XPS）的深度剖析已成为关键表征手段。离子束溅射技术作为深度剖析的核心环节，其对准精度与束流测量的准确性直接影