低气压射频容性放电中二次电子与气体压强对等离子体特性影响的数值解析

一、绪论

1.1研究背景与意义

等离子体作为物质的第四态，广泛存在于宇宙之中，如恒星内部、星际空间以及地球的电离层等。在地球上，我们也可以通过人工方式产生等离子体，其中低温等离子体由于其独特的物理和化学性质，在众多领域展现出了巨大的应用潜力，成为了当前科学研究和工业应用的热点之一。

在半导体制造领域，低温等离子体被广泛应用于刻蚀、薄膜沉积和清洗等工艺环节。例如，在超大规模集成电路的制造过程中，需要将硅片表面的多余材料精确去除，以形成纳米级别的电路图案，低温等离子体刻蚀技术能够实现高精度、高选择性的刻蚀，满足了半导体器件不断