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文件名称:铪基高k栅介质堆栈结构:设计、界面调控与MOS器件性能优化.docx
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总页数:30 页
更新时间:2025-08-27
总字数:约4.1万字
文档摘要

铪基高k栅介质堆栈结构:设计、界面调控与MOS器件性能优化

一、引言

1.1研究背景与意义

自20世纪中叶集成电路诞生以来,其发展历程犹如一部波澜壮阔的科技史诗,深刻地改变了人类社会的面貌。在过去的几十年间,集成电路遵循着摩尔定律,以惊人的速度不断演进。摩尔定律指出,集成电路上可容纳的晶体管数目,约每隔18个月便会增加一倍,性能也将提升一倍。在这一规律的驱动下,集成电路集成度持续提高,器件尺寸不断缩小,为现代电子设备的小型化、高性能化奠定了坚实基础。从早期体积庞大、运算速度有限的计算机,到如今轻薄便携、功能强大的智能手机、平板电脑等移动设备,集成电路的飞速发展使得电子产品在性能大幅