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文件名称:磁控溅射制备AlCrTiVZr高熵合金薄膜及其高温性能的多维度探究.docx
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总页数:30 页
更新时间:2025-08-27
总字数:约4.06万字
文档摘要

磁控溅射制备AlCrTiVZr高熵合金薄膜及其高温性能的多维度探究

一、引言

1.1研究背景与意义

材料科学的持续进步,为现代工业的发展提供了强大的支撑。在众多新型材料中,高熵合金(HighEntropyAlloys,HEAs)以其独特的合金设计理念和优异的性能,成为材料领域的研究热点。高熵合金的概念最早于2004年由台湾清华大学的叶均蔚教授和牛津大学的B.Cantor教授等人提出,打破了传统合金以一种或两种元素为主要成分的设计思路,通常由五种或五种以上主元素组成,且每个主元素的原子百分比在5at.%到35at.%之间,形成高熵固溶体。这种独特的成分设计赋予了高熵