基于表面等离子体的超分辨干涉光刻：原理剖析与方法探索.docx

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文件名称：基于表面等离子体的超分辨干涉光刻：原理剖析与方法探索.docx

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更新时间：2025-08-28

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文档摘要

基于表面等离子体的超分辨干涉光刻：原理剖析与方法探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的浪潮中，半导体芯片作为众多电子设备的核心部件，其制造工艺的进步一直是推动信息技术发展的关键力量。从最初的晶体管发明到如今高度集成的复杂芯片，半导体芯片制造工艺经历了翻天覆地的变化，而光刻技术始终在其中扮演着举足轻重的角色。光刻技术如同半导体芯片制造过程中的“雕刻师”，负责将设计好的电路图案精确地转移到硅片等衬底材料上，其分辨率和精度直接决定了芯片上晶体管等电子元件的尺寸和布局，进而影响芯片的性能、功耗、成本以及集成度。