基本信息

---

下载

文档摘要

---

3nmGAAFET工艺在数据中心应用的性能优化报告

一、3nmGAAFET工艺概述

1.13nmGAAFET工艺技术优势

1.23nmGAAFET工艺在数据中心应用的必要性

1.33nmGAAFET工艺在数据中心应用的挑战

二、3nmGAAFET工艺在数据中心应用的性能提升分析

2.1晶体管性能的优化

2.2集成度的提升

2.3功耗的降低

2.4热管理优化

2.5系统级能效提升

2.6兼容性与向后兼容性

2.7长期可持续性

三、3nmGAAFET工艺在数据中心应用的挑战与解决方案

3.1技术挑战

3.2成本控制

3.3兼容性与向后兼容性

3.4热管理挑战