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文件名称:12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目可行性研究报告.docx
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更新时间:2025-09-08
总字数:约5.07万字
文档摘要

12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目可行性研究报告

第一章项目总论

项目名称及建设性质

项目名称:12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目

建设性质:本项目属于新建高新技术产业项目,聚焦12英寸CMOS图像传感器(CIS)特色工艺的研发突破与规模化生产,旨在填补国内高端CIS制造领域的技术空白,推动集成电路产业链自主可控发展。

项目占地及用地指标:项目规划总用地面积60000平方米(折合约90亩),建筑物基底占地面积42000平方米;规划总建筑面积78000平方米,其中生产厂房面积55000平方米、研发中心面积12000平方米、办公及辅助设施面积11000平方米;绿化